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平板狀(片狀)氧化鋁研磨微粉(AL2O3)性能指

平均粒度（D50值）

（由Coulter Counter測試)

規(guī)格型號 平均粒度（D50值）

（由Coulter Counter測試）

粒度 目數(shù) （＃)

 TWA0.8 0.8 10000#

TWA1 1.0 8000＃

TWA2 2.2 6000＃

TWA3 3.1 4000＃

TWA5 4.7 3000＃

TWA9 6.4 2000＃

TWA GF1 7.0 2200＃

TWA12 8.4 1500＃

TWA15 10.5 800＃

TWA20 14.5 700＃

TWA25 17.4 700＃

TWA30 21.5 600＃

TWA35 25.5 500 #

TWA45 36.0 360＃

TWA50 42.5 320＃

TWA55 50.0 280＃

TWA6 63.0 240＃

注明(產(chǎn)品粒度以客戶使用要求標(biāo)準(zhǔn)為準(zhǔn))

粒度分布表以TWA12為例）

標(biāo)準(zhǔn)粒徑實測數(shù)值（um)規(guī)格（um)

**粒徑（dv-0值）16.9<23

累積高度3%點的粒徑（dv-3值）13.63<19

累積高度3%點的粒徑（dv-3值）8.57.8-9

累積高度94%點的粒徑（dv-94值）4.44≥4

化學(xué)成分

化學(xué)成份分析值（%）規(guī)格值（%）

AL2O3 99.38 99.3

SiNa2O2 0.27 0.05

Na2O 0.35 0.55

Fe2O3 0.03 0.10

物理指標(biāo)：

化學(xué)名稱 外觀 比重 莫氏硬度

A-AL2O3 白色 3.95-3.98g/cm3 9.0

包裝外貌:

包裝材料內(nèi)襯雙層塑料袋，紙箱外包裝

包裝重量20KG/箱

深圳市玥祥隆科技有限公司生產(chǎn)的平板狀氧化鋁微粉是以徳國進(jìn)口工業(yè)氧化鋁粉為主要原料,采用特殊礦化劑、高溫控制晶粒形狀及大小,經(jīng)特殊處理和嚴(yán)顆粒呈獨(dú)特的平板狀結(jié)構(gòu),硬度高達(dá)莫氏九級,磨削力強(qiáng),不易產(chǎn)生劃痕,可得到高效率、高精度的被加工表面,有特殊設(shè)計的粒度分布,質(zhì)量和日本FUJIMI公司相當(dāng)。

2、平板型氧化鋁研磨拋光微粉的特點

1）平板型氧化鋁研磨拋光微粉與其它氧化鋁研磨拋光微粉的區(qū)別是：片狀，硬度高，粒度均勻。

2）特點為：

A、形狀為平板狀，即片狀，使磨擦力增大，提高了磨削速度，提高了工效，因此可減少磨片機(jī)的數(shù)量、人工和磨削時間，如顯像管玻殼磨削工效能提高3-5倍；

B、由于形狀為平板狀，故對于被磨對象（如半導(dǎo)體硅片等）來說不易劃傷，合格品率可提高10%至15%，如半導(dǎo)體硅片，其合格品率一般能達(dá)到99%以上；

C、由于硬度比普通氧化鋁研磨拋光微粉高，故用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要少，如果磨同樣數(shù)量的產(chǎn)品，其用量比普通氧化鋁研磨拋光微粉要節(jié)約40%至50%；

D、與國外同類產(chǎn)品相比，質(zhì)量達(dá)到或超過國外同類產(chǎn)品，品質(zhì)已達(dá)到國際標(biāo)準(zhǔn)，但產(chǎn)品價格只有國外同類產(chǎn)品的50%；

E、由于平板型氧化鋁研磨拋光微粉的優(yōu)良性能，故加工的產(chǎn)品合格品率高，質(zhì)量穩(wěn)定，生產(chǎn)成本只有原來的50%-60%。

3、片狀氧化鋁是以工業(yè)氧化鋁為原料，添加復(fù)合礦化劑，經(jīng)過高溫煅燒而成。晶體形貌為具有一定厚度的片狀備用于以下方面的研磨拋光磨料，平板型氧化鋁研磨拋光微粉的用途:

1）電子行業(yè): 單晶硅片、壓電石英晶體、化合物半導(dǎo)體的研拋。

2）玻璃行業(yè): 硬質(zhì)玻璃和顯象管玻殼的加工。

3）涂附行業(yè): 特種涂料和等離子噴涂的填充劑。

4）金屬和陶瓷加工業(yè)。