等離子刻蝕機
等離子刻蝕機
產品價格：￥10（人民幣）
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  • 發貨地：廣東東莞
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  • 最小起訂量：1臺
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    商品詳情
       等離子體刻蝕設備應用于刻蝕硅片邊沿的硅磷層，擴散過程中，不但硅片的表面擴散上了磷，硅片邊緣也擴散上了磷，這會導致硅片正反兩極通過邊緣導通短路。所以必須將硅片邊緣這層被擴散上的硅磷去掉，大概去除1到3個微米。硅片在刻蝕機內水平旋轉，通入的反應氣體為四氟化碳、氧、和氮氣。其原理是在放電狀態下反應氣體四氟化碳、氧氣和硅片邊緣的硅化合物發生反應生成硅，反應形成粉未和氣態物質后隨氣流一起被抽走等。
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